碳酸氫鈉注射液均質膠體磨
混懸液中的微粒大小是不均勻的,大的微粒總是迅速沉降,細小微粒沉降速度很慢,細小微粒由于布朗運動,可長時間懸浮在介質中,使混懸液長時間地保持混懸狀態。制備混懸液時,應使混懸微粒有適當的分散度,粒度均勻,以減小微粒的沉降速度,使混懸液處于穩定狀態。傳統的混懸液生產都是采用普通膠體磨,轉速只有3000rpm,生產出來的懸浮液顆粒較粗,靜置一段時間容易產生絮凝,影響藥效和使用,為此有醫藥廠家在考察了國內的設備之后,放棄了具有極度價格優勢的國內設備,來詢問低能耗、高轉速、極精密定轉子、研磨細的希德機械高速膠體磨。
該設備轉速達到14000RPM,這可以通過變頻調速通過皮帶加速來實現。(轉速是普通分散設備3-4倍,研磨的力度也是普通膠體磨的3-4倍,這樣研磨的細度更小,效果更好)混懸液膠體磨GM2000三級錯齒結構的研磨轉子,配合精密的定子腔。
研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產品。
一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是指定轉子齒的排列,還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。
以下為型號表供參考:
型號 |
標準流量 L/H |
輸出轉速 rpm |
標準線速度 m/s |
馬達功率 KW |
進口尺寸 |
出口尺寸 |
GM2000/4 |
400 |
18000 |
44 |
4 |
DN25 |
DN15 |
GM2000/5 |
1500 |
10500 |
44 |
11 |
DN40 |
DN32 |
GM2000/10 |
4000 |
7200 |
44 |
22 |
DN80 |
DN65 |
GM2000/20 |
10000 |
4900 |
44 |
45 |
DN80 |
DN65 |
GM2000/30 |
20000 |
2850 |
44 |
90 |
DN150 |
DN125 |
GM2000/50 |
60000 |
1100 |
44 |
160 |
DN200 |
DN150 |
碳酸氫鈉注射液均質膠體磨