半光亮電鍍鎳光亮劑工藝是專門為防腐蝕性能要求高的電鍍件而設(shè)計(jì)，是雙層鎳或多層鎳系統(tǒng)電鍍中的半光亮鎳底層。
鍍層含硫量低于0.003%,半光亮鎳層與光亮鎳層電位差達(dá)120-145mv,耐蝕性極好;
鍍層柔軟性好,覆蓋能力強(qiáng),填平效果極佳;
光亮劑濃度高,消耗量小;
不含香豆素,分解產(chǎn)物少,鍍液穩(wěn)定,容易維護(hù)，降低了廢水處理和活性碳處理的成本。.
2.鍍液組成及操作條件:
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鍍液組成及工藝條件 |
適用范圍 |
一般開缸用量 |
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***鎳 |
240-300克/升 |
270克/升 |
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氯化鎳 |
45-55克/升 |
50克/升 |
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硼酸 |
40-50克/升 |
45克/升 |
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柔軟劑 |
4-6毫升/升 |
5毫升/升 |
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整平劑 |
0.4-0.8毫升/升 |
0.6毫升/升 |
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穩(wěn)定劑 |
0.4-0.8毫升/升 |
0.6毫升/升 |
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半光亮鎳濕潤(rùn)劑 |
1-2毫升/升 |
1.5毫升/升 |
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溫度 |
45-55℃ |
50-55℃ |
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PH值 |
4.0-4.8 |
4.3 |
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電流密度 |
2-6安培/平方分米 |
4安培/平方分米 |
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攪拌方式 |
空氣或機(jī)械攪拌 |
空氣或機(jī)械攪拌 |
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過濾方式 |
連續(xù)循環(huán)過濾 |
連續(xù)循環(huán)過濾 |
3.鍍液配制方法
在預(yù)備槽中注入三分之二的純水,加熱至60-70℃;加入所需的***鎳及氯化鎳,攪拌使其完全溶解.在另一個(gè)容器中,將所需的硼酸用水加熱溶解后,倒入上述溶液中.
加入2毫升/升30%的雙氧水(稀釋后再加入),并攪拌1小時(shí),再加溫至65-70℃,攪拌2小時(shí),以除去多余的雙氧水.
在55-60℃時(shí),加入2-3克/升的活性碳,攪拌1小時(shí).保溫靜置4-8小時(shí)后,再過濾鍍液,并加入純水到所需的刻度,用稀***或4%的氫氧化鈉(化學(xué)純)溶液,調(diào)整PH值至4.0左右.
用波浪狀的假陰極,以低電流密度(0.2-0.5安培/平方分米)連續(xù)電解12小時(shí)以上,或直至低電位顏色由暗黑色變成淺灰色.
最后加入計(jì)算量的各種添加劑,便可以開始電鍍.
4.設(shè)備要求:
鍍槽: 內(nèi)襯塑料的鋼槽或者塑料槽.
循環(huán)過濾: 過濾泵最少能在一小時(shí)內(nèi)將鍍液過濾四次.每工件40小時(shí),在過濾泵中放入0.6克/升的活性碳，效果會(huì)更佳。
5.添加劑的作用及補(bǔ)充：
柔軟劑RC-M91： 提高鍍層柔軟性，降低鍍層內(nèi)應(yīng)力，并改善鍍液的覆蓋能力。
整平劑RC-M92： 提高鍍層的光亮度和整平效果，缺少時(shí)鍍層的光亮度和敕平度下降，嚴(yán)重過量時(shí)會(huì)導(dǎo)致鍍層應(yīng)力增大，并降低鍍液的覆蓋能力。
穩(wěn)定劑RC-M93： 穩(wěn)定半光亮鎳層與光亮鎳層間的電位差，提高鍍層的耐蝕性。
注意：半光亮鎳鍍液不能采用光亮鎳的濕潤(rùn)劑、除雜水，以免鍍層的含硫量升高而導(dǎo)致耐蝕性降低。鍍液應(yīng)定期低電流電解以除去銅、鋅雜質(zhì)。
6.添加劑的消耗量：
柔軟劑RC-M91的消耗量：40-60毫升/KAH
填平劑RC-M92的消耗量：100-150毫升/KAH
穩(wěn)定劑RC-M93的消耗量：30-50毫升/KAH
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