一、微機灰熔點測定儀簡介
1、由計算機控制,自動讀溫、控溫、恒溫,采用CCD攝像技術采集灰錐圖形并存盤打印,一次試驗可測定1 ~ 4個樣品。
2、采用新穎的加熱器件和保溫材料,確保爐體長時間不損壞,并且升溫快、控溫準確、故障率低。
3、具有先進合理的吸塵、排煙裝置,保證測試結果準確及試驗室清潔。
4、計算機自動完成稱重數據采集、結果計算、報表打印、存儲等。
5、控制卡采用了精密基準源、低漂高精度運放、12痊A/D轉換芯片,具有冷端補償、超溫軟硬件保護等功能。
6、測試軟件全面支持Windows2000、XP平臺,穩定性更好。
7、高溫爐帶有轉盤,使裝樣簡單易用
二、主要規格及技術參數
高溫爐: 臥式爐
加熱元件: 硅碳管
加熱電源: 220V±10% 50HZ
最大加熱電流:30A
最高加熱溫度:1500℃
溫度采集元件:鉑銠-鉑 熱電偶
升溫控制方式:自動調節控制
升溫速度: <880℃ 15-20℃/min
880~900℃ 15-1℃/min
900~1500℃ 5±1℃/min
注:由于高溫爐的熱慣性較大,為保證900℃后升溫速度滿足5±1℃/分鐘的要求,從880℃開始逐漸降低溫升速度,因此這個階段溫升速度為15-1℃/分鐘。
灰錐觀察方式:攝像機自動攝取,計算機顯示。
本儀器符合國家標準《煤灰熔融性的測定方法》(GB219-96)所提示四點技術要求:
1、高溫恒溫帶長約30mm(t=5℃)。
2、能比較準確地控制升溫速度(900℃以前為15-20℃/min,900℃以后為5℃±1℃/min),并在三小時內加熱到1500℃。
3、可用通氣法或封碳法來控制爐內氣氛為弱還原性,也可用空氣于爐內自由流通的方法來控制為氧化性氣氛。
4、800℃以后爐內試樣即清晰可見。
2、計算機主機板插有圖像采集接口板。
3、控制箱內裝有攝像機、控溫元件及單片微機系統。
4、高溫爐為臥式爐,加熱元件為硅碳管,下有轉盤,可隨意轉動爐體,以方便樣品的安裝。
四、爐體安裝
1、將爐體放置水平,將硅碳管小心的插入剛玉外管內,再將剛玉內管插入硅碳管內。
2、在硅碳管噴鋁部位裝上電極卡,接上導線。
3、調節控制箱位置,使攝像頭對準高溫爐的觀測孔。
注意:攝像頭與高溫爐觀測孔應保持約15厘米的距離,以免溫度過高損壞攝像頭。
4、安裝高溫爐的硅碳管和內套管。將熱電偶從爐體后部插入高溫爐內套管中恒溫區內(一般在正中央),調節熱電偶端使其位于內套管上部。用電纜線連接高溫爐硅碳管的兩極和控制箱后面板上的負載接線柱 。
5、用隨機配備的電纜線將控制箱上的視頻、控制插頭與計算機上的對應插頭連接起來。
連接熱電偶與控制器上的熱電偶接線柱。
6、用電纜線將電源接在控制箱上的“電源”接線柱上。
五、軟件安裝
系統軟件需要在WINDOWS2000、XP安裝。
1、打開計算機,進入WINDOWSXP操作系統。
2、將隨機光盤放入光盤驅動器(CD-ROM)。
3、用鼠標雙擊“我的電腦”圖標,屏幕顯示計算機的配置。
4、用鼠標雙擊光盤驅動器(文件名為灰熔點安裝程序),屏幕將顯示光盤上的內容。點擊“軟件鎖驅動程序”,按照系統提示操作完成即可。安裝完成后,系統提示重啟電腦,點擊確定即可重啟動計算機。
5、重啟電腦后,進入桌面,打開“我的電腦”圖標,用鼠標點擊光盤驅動器(文件名為灰熔點安裝程序),屏幕將顯示光盤上的內容,然后點擊“攝像機驅動”,按照系統提示操作即可。安裝完畢后,系統提示重啟電腦,占擊確定即重啟計算機。
6、打開電腦,點擊“我的電腦”圖標,打開光盤驅動器,點擊灰熔點安裝程序,然后根據系統提示操作完成安裝。
六、儀器的使用
1、高溫帶測定。儀器安裝好后,必須測量其高溫帶,以選擇試樣放置部位。
2、試樣放置于灰錐托板上。
灰錐托板放置于剛玉舟之槽中。然后在剛玉舟里放置控制氣氛用的物質,如木炭、無煙煤、石墨等。
3、爐內氣氛控制。
(1) 弱還原性氣氛
本儀器之高溫爐膛有兩種:氣密的剛玉管和氣疏的剛玉管(通常儀器配套的是氣疏的剛玉管)其弱還原性氣氛的控制方法分別是:
A、氣密剛玉管:于爐膛中央放置石墨(粒度≤0.2mm,灰分≤15%)5~6g,或通入50±10%的H2和±10%的CO2混合氣體,通氣速度≥100m1/min。
B、氣疏剛玉管:于爐膛中央放置石墨(粒度≤0.2mm,灰分≤15%)15~20g,石墨兩側放置無煙煤(粒度≤0.5mm,灰分≤15%)30~40g。
封入的含碳物質除石墨、無煙煤外,亦可是木炭、焦炭、石油焦等。它們的粒度、數量和放置部位視具體情況而定。
(2)氧化性氣氛
爐內不放任何含碳物質,并使空氣自由流通。
(3)爐內氣氛鑒定
當采用封入含碳物質的辦法來產生弱還原性氣氛時,需用下列方法之一來判斷爐內氣氛。
A、標準錐法:選取含三氧化二鐵20-30%的易熔煤灰,預先在強還原性(爐內通100%H2或封入大量無煙煤或木炭),弱還原性和氧化性氣氛中分別測出其熔融性溫度(在強還原性和氧化性氣氛之T2或T3應比弱還原性氣氛者高100~300℃)然后以它們為標準來鑒定爐內氣氛。如測出的T2或T3還原與弱性氣氛中的測定值相差不超過50℃,則證明爐內氣氛為弱還原性;否則,應根據它們與強還原性和氧化氣氛中的測定值的相差情況以及封入之含碳物質的氧化程度來判斷氣氛是強還原性還是氧化性。
B、取氣分析法:從爐子高溫帶以5~7m1/min的速度取出氣體進行萬分分析如在1000~1300℃內還原性氣體(主要是CO,也包括H2,CH4),為10~70%(1100℃下它們和CO2之體積比1:1)且O2含量0.5%則為弱還原性氣氛。