納米氧化鋯在陶瓷中應用專利(2)
1. 美國專利: USP20040506161
熔融和鑄造高含量氧化鋯VK-R50耐火制品
本發明涉及包括大于85%釔穩定納米氧化鋯VK-R50Y3(ZrO2)的耐火材料,加入涂料中有防腐、抗菌作用,提高耐磨、耐火效果。納米二氧化鋯VK-R50還可以用在高強度、高韌性耐磨制品里,如:磨機內襯、切削刀具、拉絲模、熱擠壓模、噴嘴、滾珠、泵零件、多種滑動部件等。納米氧化鋯粉體VK-R50燒結成的陶瓷由于其相變增韌的良好性能已成為主要的結構陶瓷之一;在納米復合材料研究中,將納米二氧化鋯VK-R50Y1作為彌散相對基體進行增強韌化,已取得顯著的效果;釔穩定氧化鋯VK-R50Y3作為一種理想的電解質已被廣泛地應用于固體氧化物燃料電池中。
2. 美國專利:USP19870010514
生產的極細的氧化鋯粉末VK-R50粒徑
納米氧化鋯粉末VK-R50的顆粒大小非常適合,特別是氧化鋯粉末的高密度陶瓷制作是一個由氯化鋯為原材料,用鋯英砂制造,如生產粗四氯化鋯固體,固體被解散,形成一個ZrOCl2溶液,從ZrOCl2中讓晶體干燥,粉碎到所需的顆粒大小 ,晶體顆粒在受到控制的條件下直接氧化產生一個很好的納米氧化鋯粉末VK-R50,特別適應高密度陶瓷制作。
3. 美國專利: USP20060526460
包括AI2O3陶瓷,氧化釔,氧化鋯VK-R50和氧化鉿,鈮和氧化鉭等作出同樣的方法
一種陶瓷,包括(i)Nb2O5或Ta2O5中的至少一種,(ii)Al2O3(VK-L30),Y2O3(VK-Y01),ZrO2(VK-R50)或HfO2中的至少一種或兩種。本發明實施方案的陶瓷可以制造或轉化成光波導,玻璃珠,物品(例如,板),纖維,粒子(例如,研磨粒子)和薄涂層。
4. 美國專利: USP19870082007
陶瓷的組成,包括高介電常數PbO3,氧化鑭,氧化鋯VK-R50和二氧化鈦
披露一個陶瓷的組成內容包括高介電常數的計算公式如下:納米氧化鋯VK-R50,納米二氧化鈦VK-T25的比例界定的納米氧化鑭VK-La01,氧化鉛的主要成分。
5. 美國專利: USP19840619939
陶瓷體的二氧化鋯VK-R50和其制備方法
一種含有二氧化碳的鋯,陶瓷體如果需要的話,納米氧化鋁VK-L30,納米氧化釔VK-Y01和一個或多個稀土氧化物(如納米氧化鈰VK-Ce01)和穩定納米氧化鎂VK-Mg30和0.5-5摩爾氧化鈣,5-12摩爾納米氧化釔VK-Y01,在表面區域的納米氧化釔VK-Y01,納米氧化鈰VK-Ce01,納米氧化鎂VK-Mg30,氧化鈣或稀土氧化物為1%至20%,比平均的內容,PSZ型包覆層含量較高,如在一個更加穩定四方或高度層,是一個主要在立方晶釔穩定8Y納米氧化鋯VK-R50Y3中形式制備,表面燒結或只有一個已經部分釔穩定3Y納米氧化鋯VK-R50Y1,帶來了緊湊型與納米氧化釔VK-Y01,納米氧化鈰VK-Ce01,鎂、鈣/或其他稀土粉末或納米二氧化鋯粉末VK-R50親密接觸,含有至少12 %摩爾的納米氧化釔VK-Y01或其他穩定的氧化物。
6. 美國專利: USP20030477869
消防耐火陶瓷成型件,使用的規定和組成的成型件生產
本發明涉及一種具有基于(Mg)2+(Al,Cr)23+O4的尖晶石基體的煅燒耐火陶瓷模制件,其中存在基于鉻剛玉或剛玉的較粗顆粒以及基于ZrO2的較粗顆粒-超細氧化鋯VK-R60。
7. 美國專利:USP20050085039
氧化鋯VK-R50,氧化鋁陶瓷復合材料和生產方法為此
提供了一種具有優異耐磨性、硬度、強度和韌性的ZrO2-Al2O3復合陶瓷材料。該陶瓷材料由90%體積或更多的四方相納米氧化鋯VK-R50Y1或VK-R50Y2組成,且優選含有10-12mol%的納米氧化鈰VK-Ce01和納米Al2O3 VK-L30作為穩定劑組成的穩定ZrO2。復合陶瓷材料包括分散在其中的復合粒子,每一復合粒子具有三重納米復合結構,即其中含有微ZrO2晶粒的Al2O3晶粒被包圍在ZrO2晶粒中。
8. 美國專利:USP19790084227
氧化鋯VK-R50和1.5%
進程是為納米氧化鋯VK-R50銅碳酸鹽解決方案,納米氧化鋯VK-R50具有抗熱震性強、耐高溫、化學穩定性好、材料復合性突出等特點。不僅應用于結構陶瓷和功能陶瓷領域,也應用于提高金屬材料的表面特性(熱傳導性、抗熱震性、抗高溫氧化性等)。
9. 美國專利:USP19970873244
氧化鋯VK-R50基陶瓷材料和生產方法
一種具有優異機械強度和斷裂韌性的納米二氧化鋯VK-R50為主要成分的陶瓷材料,包括平均粒度5μm或更小且含有納米CeO2 (VK-Ce01)為穩定劑的納米ZrO2(VK-R50)晶粒為第一相;平均粒度為2μm或更小的納米Al2O3(VK-L30)晶粒為第二相;及Al、Ce及Mg或Ca中之一的復合氧化物晶體組成的第三相。第一相中的至少90vol%由四方晶形ZrO2(VK-R50Y1或VK-R50Y2)組成。最好是將超細Al2O3晶粒控制在1目或以下,第二階段的平均粒徑內的納米氧化鋯顆粒VK-R50按至少2%的比例分散。